FOTOEMULSIONE HSXHV + D41

SAATISku:IZFHSXHV

Scheda tecnica Scheda Info

Descrizione

Emulsione diazo-fotopolimera resistente agli inchiostri UV, agli inchiostri a base solvente ed a quelli cosolventi, per il settore grafico industriale ed elettronico.
• Buona resistenza a gli inchiostri a base acqua
• Eccellente definizione e risoluzione di stampa con tutti i tessuti, inclusi quelli in acciaio.
• Resistenza straordinaria ai solventi ed all’alcol etilico
• Facile da recuperare

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